전자화학 G4 염산

전자화학 G4 염산

문서 개정: 01
발행일: 2026-09-02
적용규격 : SEMI G4 Grade (반도체 초-고순도 Wet Chemical)

제품 식별

 

사양

제품명

G4 염산

제품 카테고리

반도체 전자 습식 화학

화학명

염산

화학식

HCl

CAS 번호

7647-01-0

분자량

36.46

UN 번호

1789

등급

SEMI G4 Ultra-고순도 전자 등급

 

제품개요

 

G4 염산은 반도체 웨이퍼 제조 및 고급 마이크로 전자공학 제조를 위해 특별히 정제된 고순도 무기산입니다. 초-정제, 저-오염 여과 및 클린룸 충전 공정을 통해 생산된 이 제품은 초-미량 금속 이온, 음이온 불순물 및 미세-입자를 특징으로 하며 SEMI G4 산업 사양을 완벽하게 준수합니다.


반도체 전공정의 핵심 습식 화학물질로, 웨이퍼 표면의 금속 오염물질, 이온 잔류물, 산화물 불순물을 효과적으로 제거합니다. 엄격한 불순물 제어로 미세-오염 위험을 제거하여 고급 칩 제조 공정에서 높은 수율과 안정적인 성능을 보장합니다.


모습:무색 투명하고 약간의 자극적인 냄새가 나는 투명한 액체

 

기술 사양(SEMI G4 표준)

 

테스트 항목

사양

HCl 분석

36.0 ~ 38.0 중량%

모습

무색 투명한 투명한 액체

색상(APHA)

10 이하

밀도 @ 20도

1.18 ~ 1.19g/cm3

증발 잔류물

50ppb 이하

개별 미량 금속(Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

각각 10ppb 이하

황산염(SO₄²⁻)

50ppb 이하

질산염 (NO₃⁻)

50ppb 이하

유리염소(Cl₂)

50ppb 이하

인산염(PO₄³⁻)

30ppb 이하

0.2μm 이상의 입자

100개/mL 이하

 

메모:모든 테스트 데이터는 배치-별 COA(분석 인증서)를 기반으로 합니다.

 

응용 분야(반도체 습식 공정)

 

웨이퍼 표면 청소:실리콘 웨이퍼의 잔류 금속 이온, 무기 오염물 및 표면 산화물 층을 제거하고 후속 에칭 및 증착 공정을 위한 웨이퍼 표면 청결도를 향상시킵니다.

반도체 습식 에칭:안정적인 에칭 속도와 균일한 가공 효과로 실리콘 기반 재료 및 화합물 반도체 기판의 정밀 마이크로-에칭에 사용됩니다.-

프로세스 솔루션 준비:고급 반도체 프런트엔드 제조 요구사항에 맞는 RCA 세척 공정용 혼합 세척 및 에칭 솔루션을 구성합니다.{0}}

고급 패키징 및 MEMS 프로세스:MEMS 장치, 칩 패키징 및 마이크로 전자 부품 처리를 위한 표면 처리 및 불순물 제거.

 

포장 및 충전 표준

 

포장 유형:클린-등급 HDPE 밀봉 드럼 / IBC 클린 토트

공통 사양:25kg / 30kg 소형 드럼, 1000kg IBC 토트

채우는 환경:클래스 1000 클린룸, 2차 오염 제로, 파티클 및 불순물 유입을 엄격하게 제어

씰링 표준:전문적인 내산성-밀폐 포장, -휘발 방지 및 누출 방지-

 

보관 및 유통기한

 

● 서늘하고 건조하며 환기가 잘 되는 화학물질 전용창고에 보관하고, 직사광선, 고온, 열원을 피해 밀봉하여 보관하십시오.

● 화학 반응 및 오염을 방지하기 위해 알칼리성 물질, 산화제, 유기 화학 물질로부터 격리하십시오.

● 휘발성 변질 및 불순물 흡수를 방지하려면 장기간 개방 배치를-엄격히 피하세요.

● 유통기한: 표준 밀봉 보관 조건에서 12개월

 

취급 및 안전상의 주의사항

 

● 염산은 부식성이 있고 휘발성입니다. 작업자는 완전한 PPE(산-내성 장갑, 화학 고글, 부식-방지 앞치마 및 보호복)을 착용해야 합니다.

● 통풍이 잘 되는 환경에서 작동하십시오. 휘발성 가스의 흡입과 피부 및 눈에의 직접적인 접촉을 피하십시오.

● 희석 작업: 물에 산을 천천히 첨가하고, 튀거나 부상을 방지하기 위해 진한 염산에는 절대로 물을 첨가하지 마십시오.

● 접촉 또는 누출이 발생한 경우 시기적절한 청소 및 폐기를 위해 SDS 비상 지침을 따르십시오.

● 전체 위험 분류, 운송 규칙 및 응급 조치에 대해서는-공식 SDS 문서를 참조하세요.

 

품질 보증

 

G4 염산의 각 배치는 SEMI G4 국제 표준에 따라 생산 및 검사됩니다. 모든 배송에는 공식 배치 COA가 함께 제공됩니다. 모든 생산, 정제 및 충진 공정은 엄격한 클린룸 오염 제어를 채택하여 고급 반도체 제조 응용 분야의 안정적이고 일관된 제품 품질을 보장합니다.-

 

염산 사양

 

제품명

등급

상대분자량

분자식

염산

전자화학제품 G4

36.46

HCl

 

품목 검사

명세서

품목 검사

명세서

모습

무색 투명한 염화수소 수용액

니켈(Ni), ppt

100 이하

분석(HCl), %

36.0~38.0

구리(Cu), ppt

100 이하

색도, Hazen 단위

10 이하

아연(Zn), ppt

100 이하

연소 잔류물(황산염 기준),ppm

3 이하

갈륨(Ga), ppt

100 이하

유리 유효 염소(Cl), ppb

100 이하

게르마늄(Ge), ppt

100 이하

암모늄(NH₄), ppb

100 이하

비소(As), ppt

100 이하

황산염(SO₄), ppb

100 이하

스탠튬(Sr), ppt

100 이하

아황산염(SO₂), ppb

100 이하

지르코늄(Zr), ppt

100 이하

인산염(PO₄), ppb

100 이하

니오븀(Nb), ppt

100 이하

리튬(Li), ppt

100 이하

몰리브덴(Mo), ppt

100 이하

베릴륨(Be), ppt

100 이하

은(Ag), ppt

100 이하

붕소(B), ppt

100 이하

카드뮴(Cd), ppt

100 이하

나트륨(Na), ppt

100 이하

주석(Sn), ppt

100 이하

마그네슘(Mg), ppt

100 이하

바륨(Ba), ppt

100 이하

알루미늄(Al), ppt

100 이하

탄탈륨(Ta), ppt

100 이하

칼륨(K), ppt

100 이하

금(Au), ppt

100 이하

칼슘(Ca), ppt

100 이하

탈륨(Tl), ppt

100 이하

티타늄(Ti), ppt

100 이하

납(Pb), ppt

100 이하

바나듐(V), ppt

100 이하

비스무트(Bi), ppt

100 이하

크롬(Cr), ppt

100 이하

입자(0.2μm 이상), 개/mL

300 이하

망간(Mn), ppt

100 이하

입자(0.3μm 이상), 개/mL

100 이하

철(Fe), ppt

100 이하

입자(0.5μm 이상), 개/mL

5 이하

코발트(Co), ppt

100 이하

보고서 끝

-

 

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